レイトレーシング技術

高効率的UVシステム

リフレクタの形状は、最新鋭のレイトレーシングソフトウェアを使用して最適化されています。 UVランプとリフレクタは、3Dモデルとしてプログラムに読み込まれます。放射線の受光レベルはUV乾燥を検証する重要なファクターであり、様々な距離にて検証されます。決定因子としては、ランプの光軸、基板またはコーティング材料からの標準的な距離です。リフレクタのジオメトリが変化すると、レイトレーシングも変化します。 UVシステムのレイトレーシングは、用途に応じて異なる特性が要求されます。特に温度に敏感な基材では、ビーバーテール放射を生成するパラボラタイプのリフレクタが使用されます。その他、例えば楕円型反射体は、集光タイプの光線が必要な場合に使用されます。表面あたりの放射電力を測定し、3Dグラフ内の1平方ミリメートルあたりのワット数として表示されます。レイトレーシングは、ユニットのUV効率、放射の均一性、および距離特性を計算し最適化するために使用されます。

 

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熱シミュレーション

熱力学は、次の開発ステップにて最適化されます。 空気の流速プロファイル、周辺空気やUVユニットに組み込まれるリフレクタおよびハウジングコンポーネントの熱負荷をシミュレートするため、ユニットを3Dモデルとしてプログラムに読み込みます。 クリティカルゾーンを認識し、そのダイナミクスを最適化することができます。 レイトレーシングとサーモシミュレーションは、最適化処理されたリフレクタおよびハウジング構成部品の設計3D CADシステムで即座に変更できるため、開発時間を大幅に短縮します。 これらのシミュレーションプログラムにより、時間を要するラボでのセットアップ時間を最小限に抑えることが出来ます。

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